Durchflussmessung in der Photolithographie

Bei der Photolithografie ist das Auftragen des lichtempfindlichen Fotolacks auf die Oberfläche des Wafers durch einen Prozess namens Spin Coating ein wichtiger Verfahrensschritt. Die korrekte Steuerung der Durchflussrate gewährleistet eine gleichmäßige Schichtdicke, die für die spätere Herstellung präziser Muster unerlässlich ist.

Eine Fotomaske wird verwendet, um das gewünschte Muster auf den beschichteten Wafer zu projizieren. Danach folgt die Dünnschichtabscheidung, bei der Schichten auf dem Wafer aufgebaut werden, während die Reinigung der Maske für die Integrität des Musters unerlässlich ist. Eine genaue Durchflussmessung trägt zur Effizienz und Qualität des gesamten Photolithografieprozesses bei.

Bei der Maskenreinigung werden starke Lösungen wie Piranha Etch verwendet, die für ihre Wirksamkeit bei der Entfernung von Fotolackresten von Siliziumwafern bekannt sind. Eine genaue Durchflussmessung mit SEMIFLOW CO.65 Sensoren gewährleistet eine kontrollierte Anwendung dieser Lösung und verhindert Schäden an empfindlichen Halbleiterstrukturen.

Beim Metall-Lift-off wird überschüssiges Material entfernt, so dass das gewünschte Muster zurückbleibt. In all diesen Phasen liefern Clamp-On Durchflusssensoren Echtzeitdaten und gewährleisten so die präzise Durchflusssteuerung, die für optimale Ergebnisse bei der Halbleiterherstellung erforderlich ist. Die Kombination aus Fotolithografie, genauer Durchflussmessung und präzisen chemischen Behandlungen wie der Piranha-Lösung ist für die Herstellung von Hochleistungs-Mikroelektronik entscheidend.