Waferreinigung in der Halbleiterfertigung
Durchflussmessung mit SEMIFLOW® Sensoren im Waferreinigungsprozess
In den komplexen Prozessen der Halbleiterherstellung ist die Waferreinigung ein entscheidender Schritt, um die einwandfreie Leistung von Mikrochips zu gewährleisten. Die Messung des Flüssigkeitsdurchflusses spielt in diesem Prozess eine entscheidende Rolle und sorgt für Präzision und Effizienz.
Durchflussmessung unterstützt den Prozess der Waferreinigung
Reinigungslösungen zur Waferreinigung
Halbleiterhersteller verwenden verschiedene Reinigungslösungen, darunter Isopropylalkohol (IPA), SC1 und SC2 sowie Piranha Etch, um Verunreinigungen von Wafern zu entfernen. Diese Lösungen werden über ein Liquid Delivery System (LDS) zugeführt, das die Durchflussmengen präzise steuert. An diesem Punkt messen hochpräzise SEMIFLOW Durchflusssensoren die genaue Durchflussrate und das Durchflussvolumen der Flüssigkeit, um einen effizienten und ressourcenschonenden Einsatz der Chemikalien zu gewährleisten.
Prozessschritte der Waferreinigung
Der Wafer-Reinigungsprozess umfasst oft mehrere Stationen, wie z.B. die Nassbank, wo die Wafer in Reinigungslösungen eingetaucht werden, gefolgt von Spül- und Trocknungsphasen. RCA-Reinigung, Spin-Etching und Piranha-Ätztechniken verfeinern den Reinigungsprozess weiter und entfernen hartnäckige Rückstände. In all diesen Phasen sorgt eine präzise Durchflussmessung der Flüssigkeiten für eine gleichmäßige Verteilung der Reinigungsmittel, um eine Beschädigung der empfindlichen Wafer zu verhindern.
Abschließend werden die Wafer einer Trockenschleuder unterzogen, um überschüssige Feuchtigkeit zu entfernen und eine perfekte Oberfläche zu gewährleisten. Die Durchflussmessung unterstützt diese Prozesse und gewährleistet die Zuverlässigkeit und Qualität der Halbleiterherstellung.
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